НИИМЭ и НИИТМ приблизили Россию к чипам 65 нм

НИИМЭ и НИИТМ приблизили Россию к чипам 65 нм

Научно‑исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ впервые в России создали кластерные системы для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), способные выпускать чипы с проектными норами 65 нм, на кремниевых пластинах диаметром…

Источник