В России практически завершена разработка 130-нм литографической установки

В России практически завершена разработка 130-нм литографической установки

Изображение сгенерировано нейросетью Не так давно в России наладили выпуск 350-нм литографов, а теперь отечественные специалисты при поддержке белорусских коллег изготовили опытный образец литографической установки, которая позволяет выпускать полупроводниковую продукцию…

Источник